Hvis 3-amino-5-mercapto-1,2 inhaleres, 4-triazol, skal du flytte patienten til frisk luft; I tilfælde af hudkontakt skal du tage det forurenede tøj af og vaske huden grundigt med sæbevand og vand. Hvis du føler dig utilpas, skal du søge lægehjælp. hvis du har øjenkontakt, skal du adskille øjenlågene, skylle med strømmende vand eller normal saltvand og straks søge lægehjælp; ved indtagelse, gurgl straks, fremkald ikke opkastning, og søg straks lægehjælp.

Det bruges til at forberede en rengøringsopløsning til fotoresist

I den almindelige fremstillingsproces for LED og halvleder dannes fotoresistmasken på overfladen af ​​nogle materialer, og mønsteret overføres efter eksponering. Efter opnåelse af det krævede mønster skal den resterende fotoresist fjernes inden den næste proces. I denne proces er det nødvendigt at fjerne den unødvendige fotoresist helt uden korrodering af noget substrat. På nuværende tidspunkt består fotoresistrensningsopløsning hovedsageligt af polært organisk opløsningsmiddel, stærk alkali og / eller vand osv. Fotoresisten på halvlederpladen kan fjernes ved at nedsænke halvlederchippen i rengøringsvæsken eller vaske halvlederchippen med rengøringsvæsken .

Der er udviklet en ny type rengøringsopløsning til fotoresist, som er et ikke-vandigt vaskemiddel med lav ætsning. Den indeholder: alkoholamin, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazol og co-opløsningsmiddel. Denne form for fotoresistrensningsløsning kan bruges til at fjerne fotoresist i LED og halvleder. Samtidig har det intet angreb på underlaget, såsom metalaluminium. Hvad mere er, systemet har stærk vandmodstand og udvider driftsvinduet. Det har en god applikationsudsigt inden for LED-rengøring og halvlederchiprengøring.